1~3英寸半导体硅片


  富乐达科技可以提供1~3英寸半导体CZ、MCZ、FZ制法的硅片,从调试级硅片,测试级硅片到产品级硅片,以及特殊规格硅片;


  硅片可以应用于PVD/CVD/热氧化/氮化等镀膜用衬底;磁控溅射生长样品;分子束外延生长的基底;SEM扫描电镜、透射电镜、

  原子力AFM、拉曼光谱、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底;X射线分析;刻蚀、键和、光学透过、透镜、器件等;


 生长方式 CZ,MCZ,FZ
 等级 Prime,Test,Dummy,etc.
 直径 1 2 3 inch/25mm 50mm 75mm
 厚度 50~3000um
 表面处理 切片,研磨,刻蚀,抛光,etc
 晶向 (100)(111)(110)(211),etc.
 晶向偏角 up to 7 deg
 掺杂类型 P/B,N/Phos,N/As,N/Sb,intrinsic
 FZ:up to 20k ohm-cm
 电阻 CZ/MCZ:From 0.001 to 1000 ohm-cm
 薄膜 PVD:Al,Cu,Cr,Si,Ni,Fe,Mo.etc,
 PECBD:Oxide,Nitride,SiC,etc
 加工服务 定制双抛、减薄、超平硅片/DSP,ultra thin,ultra flat,etc.
 掏圆、减薄、切割/Downsizing,back grinding,dicing,etc.




















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