8~12インチシリコンウェハー


フレダ テクノロジーは8〜12インチ ダミー、テスト、プライムグレードのCZ、MCZ、FZ製法の半導体シリコンウェハーを提供できます。

酸化膜、窒化膜、金属膜、ダイシング、Thinning、研磨などの加工も対応可能です。


シリコンウェハー用途:PVD / CVD /熱酸化/窒化およびその他のコーティング基板;マグネトロンスパッタリング成長サンプル;分子ビームエピタキシャル成長基板; SEM電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡、原子間力AFM、ラマン分光法、赤外線分光法、蛍光分光法など。テスト基板; X線分析;エッチング、ボンディング、光透過、レンズ、デバイスなど;


 

 製法 CZ,MCZ,FZ
 グレード Prime,Test,Dummy,etc.
 直径 8 12 inch/200mm 300mm 
 厚み 600~1500um
 表面状態 アズスライス、研磨、ポリシュ,etc
 結晶方位 (100)(111)(110),etc.
 OF up to 4 deg
 タイプ/ドーパント P/B,N/Phos,N/As,N/Sb,intrinsic
 FZ:up to 20k ohm-cm
 抵抗値 CZ/MCZ:From 0.001 to 200 ohm-cm
 薄膜
 PVD:Al,Cu,Cr,Si,Ni,Fe,Mo.etc,
 PECBD:Oxide,Nitride,SiC,etc

 
 加工サービス
 DSP,ultra thin,ultra flat,etc.
 Downsizing,back grinding,dicing,etc.