8~12インチシリコンウェハー
フレダ テクノロジーは8〜12インチ ダミー、テスト、プライムグレードのCZ、MCZ、FZ製法の半導体シリコンウェハーを提供できます。
酸化膜、窒化膜、金属膜、ダイシング、Thinning、研磨などの加工も対応可能です。
シリコンウェハー用途:PVD / CVD /熱酸化/窒化およびその他のコーティング基板;マグネトロンスパッタリング成長サンプル;分子ビームエピタキシャル成長基板; SEM電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡、原子間力AFM、ラマン分光法、赤外線分光法、蛍光分光法など。テスト基板; X線分析;エッチング、ボンディング、光透過、レンズ、デバイスなど;
製法 | CZ,MCZ,FZ |
グレード | Prime,Test,Dummy,etc. |
直径 | 8 12 inch/200mm 300mm |
厚み | 600~1500um |
表面状態 | アズスライス、研磨、ポリシュ,etc |
結晶方位 | (100)(111)(110),etc. |
OF | up to 4 deg |
タイプ/ドーパント | P/B,N/Phos,N/As,N/Sb,intrinsic FZ:up to 20k ohm-cm |
抵抗値 | CZ/MCZ:From 0.001 to 200 ohm-cm |
薄膜 | PVD:Al,Cu,Cr,Si,Ni,Fe,Mo.etc, PECBD:Oxide,Nitride,SiC,etc |
加工サービス | DSP,ultra thin,ultra flat,etc. Downsizing,back grinding,dicing,etc. |